[신상완 교수] 임상특집(7)

1. 서론

1951년 스웨덴의 P-I Branemark 교수는 손상된 골의 “Bone Healing Process”를 연구하는 과정에서 전자현미경 사진에 의해 Titanium이 골과 접합되는 현상을 발견하여 이때부터 Branemark 교수에 의해 Osseointegration(골유착)이라는 용어가 만들어졌다.

1952년 부터 치과임플란트에 응용하기 위한 연구를 지속적으로 진행해 1965년 최초로 무치악환자에 시술해 약 40년간 기능을 수행한 후에도 원래 임플란트가 그대로 남아 있었다. 1983년 토론토대학의 George Zarb 교수에 의해 개최된 Toronto conference가 전 세계 과학계가 Branemark 교수의 연구 를 받아들이는 계기가 되었고 세계적으로 널리 확산되는 계기가 되었다.

우리나라에서는 1980년대말 1990년대 초에 Branemark impl ant에 의한 골유착성 임플란트가 처음 소개됐을 때에는 치유된 치조골에 임플란트를 식립하는 개념으로 소개됐으며 임플란트 식립 을 위한 치조골에 hole을 형성하는 여러 단계에 걸친 삭제는 잔존 골에 최소의 침습적이면서 Drilling에 의한 열 발생에 의한 골세포의 손상을 최소화하기 위한 여러 단계에 걸친 조심스러운 수술과정이었다. 또한 손상을 받은 골이 치유과정동안 압력이 가해지지 않도록 하여 2-3개월 후에 임플란트 표면에 신생골이 잘 접합되어 골융 합(Osseointegration)을 유도하기 위한 노력을 경주하였었다.

그 후 임플란트의 표면과 골융합에 대한 많은 연구가 이루어져 초기 Machined surface에서 SRA surface로 변화되어 오면서 임플란트 표면에 골형성이 많이 개선되어 골과 Titanium implant와의 접촉면적율이 증가되면서, 최근에는 Osseointegration의 중요성에 대한 강조가 덜한 게 현실이다.

그래서 2000년 초반 “발치후 즉시 식립 임플란트” 관련 자료가 발행된 이후 시도되어 왔으며, 최근에 발치 후 즉시 식립이 많이 시술되고 있고, 임플란트 식립과 병행하여 다양한 골이식술도 많이 시행되고 있다. 치아 발거 후 임플란트의 즉시 식립이 유리한 점도 있고 가능한 경우도 있다.

그러나 아직도 장기적인 성공을 위한 Osseointegration을 위해 치조골 흡수가 심하거나 근단병소 큰 경우 치아 발거시에 치조재 보존술을 병행하고, 환자의 상태에 따른 발치 후 임플란트의 식립을 위한 치유기간의 부여해주고，임플란트 식립후 기능 부하 시기를 조절하는 등, 환자나 술자의 관점에서 안전하고 덜 침습적인 시술에 의한 임플란트를 이용한 보철치료의 장기적인 성공을 위한 임상 적용방법을 소개하고자 한다.

2. 본론
1. 발치와 치유의 과정
 

일반적으로 치아가 발거된후발치와는 (그림 1)과 같이 약60일 에 걸친 치유과정을 거친다. 발치후 발치와 내에 출혈이 되고 유기화된 organized network과 함께 혈병 형성이 일어난다. 혈병은 발치와 치근단부터 육아조직으로 치환되고，치은부위는 4일 후부터 수축하기 시작해서 얇은 상피에 의해 표면이 덮히게 된다. 그후 상 피화 과정이 더 진행되고 3주째 거의 완료되고 골양조직이 더 많이 생기기 시작한다.

6주가 되면 새로운 상피가 지존의 상피와 비슷하게 되며, 우골이 발치와 내에 나타나게 된다. 발치와의 완전한 회복은 4개월 정도에 일어나지만 이전의 치조정 만큼 골양이 늘어 나지는 않는다. 이때 일반적으로 치조정의 부피가 적어지게 되는 데, 대체적으로 협측 부위의 축소가 일어난다. 그후 심한 치조골의 흡수가 있기 마련인데，6개월까지는 일정하게 일어나고 1년까지도 계속된다.

2. 발치 후 임플란트의 식립시기
임플란트를 이용한 보철치료의 최적의 결과를 얻기 위해서는 Wilson과 Weber는 (표1)과 같이 발치 후 임플란트의 식립시기를 4단계로 분류하였다.
 

Immediate placement（발치후 즉시식립）할 수 있는 조건이 되는 경우（발치와와 임플란트의 직경의 차이가 적고 협설측 치조골이 건강한 경우）에는 발치와가 임플란트 식립의 가이드가 될 수 있으며，치조골 협측의 흡수를 최소화할 수 있고，전체적인 치료기간을 단축시킬 수 있어 환자의 신체적 정신적인 스트레스를 최소화할 수 있는 장점이 있다.

Recent placement（조기식립）은 발치후 2개월 이내에 임플란트 를 식립하는 것을 말하며, 치조골의 흡수가 미약한 경우 발치와 연조직이 치유된 후에 임플란트의 식립이 추천되며, Delayed site Placement（지연식립）은 발치후2개월에서 6개월 사이에 임플란 트를 식립하는 것을 말하며，치조골의 협설골이 흡수되었거나 치아 주위의 병소가 광범위한 경우에 해당된다고 본다. 그리고 완전히 발치와가 치유된 후에 식립하는 Mature site pla cement 혹은 Healed Ridge placement(치유치조골식립）으로 나눌수 있겠다.

발치와의 형태가 (그림 2)의 좌측 상단처럼 5/6면에 치조골이 존재할 경우 발치 즉시 임플란트 식립의 양호한 조건이 된다고 하겠다. 그러나 기타의 경우에는 발치와 혹은 치조골 보존술 시행후 조기 혹은 지연식립이 추천되고，발치 후 즉시식립의 경우에는 골이식후 차단막의 병행 사용이 요구되며，세심한 고려와 시술이 요구된다.